반도체 공정 기술 - 7nm, 5nm, 3nm 차이점과 발전 방향
반도체 공정 기술 - 7nm, 5nm, 3nm 차이점과 발전 방향1. 반도체 공정 기술이란?반도체 공정 기술은 실리콘 웨이퍼 위에 트랜지스터를 형성하는 미세 가공 기술로, 반도체 성능과 전력 효율을 결정하는 핵심 요소입니다. 공정 기술이 발전할수록 트랜지스터 크기가 작아지면서 더 많은 트랜지스터를 집적할 수 있으며, 이는 성능 향상과 전력 소비 절감으로 이어집니다.오늘날 반도체 산업에서 가장 주목받는 공정 기술은 7nm, 5nm, 3nm 노드입니다. 삼성전자와 TSMC를 중심으로 초미세 공정 경쟁이 치열하게 진행되고 있으며, 향후 2nm 및 1.4nm까지 발전이 예고되어 있습니다.2. 7nm, 5nm, 3nm 공정의 차이점반도체 공정 노드는 나노미터(nm) 단위로 표현되며, 일반적으로 트랜지스터의 게이트..
2025. 3. 9.